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說著，指著光刻機道：“這臺光刻機里面的激光器、光束矯正器、能量控制器、光束形狀設置、遮光器、能量探測器、掩模版都是國際最前沿的技術產品。”
蘇揚繼續道：“另外，掩膜臺的運動控制精度達到納米級，物鏡、量臺、曝光臺、內部封閉框架、減振器等物，也都是目前最先進的產品。”
“當然，最主要的還是這臺光刻機的光源，并非是目前國際國內流行的深紫外光。”
“所采用的光是的軟X射線，也就是極紫外光作為光源。”
蘇揚的話音落下。
現場陡然變得一片寂靜。
四名高冷的保鏢們不知所云，作為退役的軍人，他們對這些科技玩意兒一無所知，完全聽得云里霧里。
但看到半導體公司的人，一個個都瞠目結舌，傻了似的，又覺得boss的話不明覺厲。
短暫的寂靜之后，便是一片嘩然，安正國等七人議論紛紛。
“這……”
“采用的是的極紫外光？”
“怎么可能，我前兩天才剛剛看的新聞，尼康公司的光刻機，也才在準備進發32nm半導體工藝，而光源依舊用的是193nm的深紫外光啊！”
“是啊，曝光波長一下子降到，這豈不是意味著……它能夠把光刻技術擴展到32nm以下的特征尺寸了！！！”
“蘇總，您別不是在逗我們開心啊，現在全球范圍內，絕對沒有任何一家半導體公司，能造出這樣的設備！”
“蘇總，這到底是真是假啊！”
幾名遠揚半導體的高層，一個個都紅著眼眶，把目光不斷在蘇揚和光刻機的身上徘徊。
作為半導體制造業皇冠上的明珠，光刻機的意義不言而喻。
芯片在生產中需要進行20-30次的光刻，耗時占到IC生產環節的50%左右，占芯片生產成本的三分之一。
通常意義上來說，只要解決光刻機的問題，那么芯片制造的工程，就完結了一半。
因此，也不怪幾個搞半導體的家伙，像是癡·漢一樣看著他。
蘇揚笑道：“行了，你們也別這樣看我，是真是假，我嘴上說了也沒用，召集人員進行一次實驗，不就一目了然了？安總，工廠內應該是有光刻膠和硅片的吧？”
安正國一愣，連忙道：“有，都儲存著呢，我馬上找人來進行實驗。”
說著，安正國立刻召集人手，搬來相應的半導體材料。
半導體芯片生產主要分為IC設計、IC制造、IC封測三大環節。
所謂IC，就是集成電路的英文簡寫。
IC設計是高端技術，也是inter等公司，能屹立于半導體行業巔峰最重要的因素之一。
主要根據芯片的設計目的，進行邏輯設計和規則制定，并根據設計圖制作掩模，以供后續光刻步驟使用。
而IC制造，就是半導體芯片的制造了。
一般，要實現芯片電路圖從掩模上轉移至硅片上，并實現預定的芯片功能。
包括了光刻、刻蝕、離子注入、薄膜沉積、化學機械研磨等步驟。
至于IC封測，就是完成對芯片的封裝和性能、功能測試，是產品交付前的最后工序。
IC設計就不提了，蘇揚有蘋果A6處理器的技術，其中就包括了32nm芯片的設計。
另外，商城掛著的inter酷睿系列，也有45nm——14nm芯片的工藝技術。
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其中的難點和關鍵點，在于將電路圖從掩模上轉移至硅片上。
這一過程，目前只能通過光刻，才能最有效地實現。
所以，光刻的工藝水平，往往直接決定了芯片的制程水平和性能水平。
安正國找來技術人員和材料，在蘇揚的指導下，這些專業生產芯片的員工，初步了解到這臺光刻機的使用流程。
光刻的原理，實際上非常簡單。
在硅片表面覆蓋一層具有高度光敏感性的光刻膠，再用光線透過掩模照射在硅片表面。
被光線照射到的光刻膠，會發生反應。
此后，再用特定的溶劑洗去被照射或未被照射的光刻膠，就實現了電路圖從掩模到硅片的轉移。
這和華夏古代的印刷術，實際上有一些相似之處，但光刻技術卻比印刷術難了千萬倍。
一般的光刻步驟，有氣相成底膜、旋轉涂膠、軟烘、曝光、顯影、堅膜。
接著，就是進行檢測，主要是顯影檢測，讓合規的硅片進入后續的蝕刻流程。
所謂蝕刻，便是通過化學或物理的方法，有選擇地從硅片表面，除去不需要材料的過程。
完成之后，就能通過特定溶劑，洗去硅片表面殘余的光刻膠了。
當然，這是最簡易的光刻步驟，在實際生產制造中，比這復雜了上百倍。
從開始光刻，到最后洗去殘余的光刻膠，幾個步驟，就足足花了三個多小時。
當然，這里面也有一些員工剛剛接觸新設備，操作不順手的因素。
當時間來到下午四點半的時候。
車間內，一片驚喜和歡騰的景象。
“出來了，居然真的做出來了！”
“60nm的電路圖，居然真的被我們轉移到了硅片上。”
“不可思議啊！全華夏能做60nm芯片的企業，不超過三家，而且全是在18年下半年才剛剛突破的技術，還是在實驗室里！做到量產的話，得到今年年底，甚至是明年年初去了。”
“是啊，而我們現在，卻擁有了一臺可以量產60nm芯片的光刻機，如果操作熟練了，速度提上去，再進行交替光刻，一天至少可以造上數百片12寸的圓晶啊！”
“這是一個突破，了不起的突破，如果我們把這里發生的事情，宣布出去，足以震驚整個華夏，乃至是中央都要被驚動！”
華夏在半導體行業，被壓了太多年了。
從上個世紀以來，就一直跟在西方國家的屁股后面跑，說是向人家乞討技術也不為過。
雖然60nm芯片的量產，和45nm芯片的量產，還有一定的差距。
但是，在工藝水平上，也能證明華夏沒比inter等落后太多了。
這是一個十分漲士氣的突破。
一旁，劉元龍沉聲道：“各位，你們難道沒有意識到嗎？剛才我們用的，只是這臺光刻機最底線的精度！”
這話一出，幾名興奮的家伙，立刻止住了話音，轉而張了張嘴巴，眼睛立刻掙得大大的。
“是啊，剛才用的還是最低的精度！”
“沒錯，往上一個刻度的話，豈不是意味著……45nm甚至32nm的芯片也有可能了？”
“不對，我之前看過一篇學術報告，EUV光刻技術的真正領域，是32nm，不，是22nm以下的領域！”
“22nm以下，這……這也太瘋狂了吧。”
“……”